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MP-1B金相試樣磨拋機

簡要描述:MP—1B金相試樣磨拋機在金相試樣制備過程中,試樣的磨、拋光是的工序,試樣經(jīng)過磨拋后,可獲得光亮如鏡的表面。

  • 產(chǎn)品型號:
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2024-11-05
  • 訪  問  量:564

詳細(xì)介紹

一、產(chǎn)品概述

MP—1B金相試樣磨拋機在金相試樣制備過程中,試樣的磨、拋光是的工序,試樣經(jīng)過磨拋后,可獲得光亮如鏡的表面。MP—1B金相試樣磨拋機采用了變頻器調(diào)速,可使磨拋盤的轉(zhuǎn)速在50-1000r/min之間無極可調(diào),通過更換金相砂紙和拋光織物可以完成試樣的磨、拋工序,展現(xiàn)了更廣泛的應(yīng)用性。殼體采用整體吸塑,外觀新穎,具有轉(zhuǎn)動平穩(wěn)、噪聲小、操作方便、工作效率高等特點,并自帶冷卻裝置,可以在磨拋時對試樣進行冷卻,以防止因試樣過熱而破壞金相組織。適用于工廠、大專院校、科研單位的金相試驗室,是金相試樣磨拋光的設(shè)備。

二、主要功能和特點

1、殼體采用ABS一體成型,外觀新穎,大氣上檔次。

2、水龍頭采用全銅鍍鉻工藝,防腐蝕性好。

3、無極調(diào)速,方便快捷滿足多種需求。

4、磨拋盤可以進行順時針或逆時針旋轉(zhuǎn),適應(yīng)不同需要。

技術(shù)參數(shù)

磨盤直徑

 標(biāo)配φ203mm(其它規(guī)格定制)

磨盤轉(zhuǎn)速

50-1000r/min(無極調(diào)速)

磨拋盤旋轉(zhuǎn)方向

正反轉(zhuǎn)

電源

電壓:220V  頻率:50HZ

電機

0.55KW

外形尺寸

730×420×320mm

重量

35Kg

配置清單

產(chǎn)品附件

單位

數(shù)量

備注

磨拋盤

1

已安裝在設(shè)備上

擋水圈

1

已安裝在設(shè)備上

壓圈

1

已安裝在設(shè)備上

水砂紙

1

Φ203mm

拋光織物

1

Φ203mm

進水管

1

6分接口

出水管

1

Φ32

技術(shù)文件

1.產(chǎn)品說明書1份            2.產(chǎn)品合格證1份

 

 金相試樣磨拋機的使用細(xì)節(jié):  

設(shè)備了解:使用前,用戶應(yīng)該仔細(xì)閱讀設(shè)備說明書,了解設(shè)備的結(jié)構(gòu)、工作原理、操作步驟及安全注意事項。熟悉各個部件的功能,例如研磨盤、拋光盤、冷卻系統(tǒng)、力度調(diào)節(jié)裝置等。  

準(zhǔn)備工作:在開始使用磨拋機前,應(yīng)確保工作臺面干凈整潔,檢查電源線是否安全可靠,并確保磨拋機處于良好的工作狀態(tài)。準(zhǔn)備好所需的砂紙、拋光布、拋光液和其他輔助工具。  

樣品準(zhǔn)備:根據(jù)所要觀察的材料類型和目的,選擇合適的樣品尺寸和形狀。通常需要將樣品切割成小塊,以便于握持和磨拋。對于某些特殊材料可能需要特殊的夾具。  

粗磨:使用較粗糙的砂紙對樣品進行初步打磨。這一步驟的目的是快速去除表面的不規(guī)則和劃痕,但不要太用力以避免損壞樣品。  

中磨:隨著樣品表面逐漸平整,可以逐步使用細(xì)一些的砂紙。中磨的目的是進一步平滑表面,減少粗磨留下的痕跡。  

細(xì)磨:當(dāng)樣品表面較為平滑后,使用更細(xì)的砂紙進行細(xì)磨。這一步是為了讓表面更加細(xì)膩,為最終的拋光打下良好基礎(chǔ)。  

拋光:細(xì)磨完成后,使用專用的拋光布和拋光液進行最終的拋光工作。拋光時要注意均勻施力,保持樣品與拋光盤的接觸面積,避免局部過熱或不均勻磨損。  

清潔:每次磨拋后,應(yīng)及時清理磨拋機上的殘留物,包括砂粒、拋光液和其他雜質(zhì)。這有助于維護設(shè)備的性能和延長使用壽命。  

觀察與評估:拋光完成后,使用顯微鏡或其他檢測設(shè)備對樣品表面進行觀察,評估是否滿足分析要求。如果發(fā)現(xiàn)有缺陷或不滿意的地方,可能需要重新磨拋。  

安全操作:在整個操作過程中,應(yīng)始終遵守安全操作規(guī)程,佩戴必要的防護裝備,如手套、護目鏡等。確保磨拋機運轉(zhuǎn)時不要將手或其他物體伸入旋轉(zhuǎn)的盤中。  

維護保養(yǎng):定期進行保養(yǎng),檢查機械部件的緊固情況,潤滑移動部分,更換磨損的部件。正確的維護能夠保證設(shè)備的長期穩(wěn)定運行。  

記錄與反饋:在使用過程中,記錄下操作條件、使用的耗材以及樣品的處理結(jié)果,這些信息對于后續(xù)的實驗復(fù)現(xiàn)和質(zhì)量控制非常有幫助。

 
 

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